Diplomová práce si klade za cíl nalézt vhodnou metodu měření tloušťky ultratenkých vrstev deponovaných účinkem plasmy na povrch výrobků. Teoretická část se věnuje v úvodní fázi popisu principu samotné technologie depozice (jinak též nanášení nebo nánosování) a zmiňuje kritické aspekty těchto technologií - mezi jinými právě problematika relevantního měření nanesených vrstev. Klíčová část literární rešerše shrnuje principy měřících metod potenciálně vhodných pro praktickou část. Praktická část DP definuje a interpretuje výsledky měření použitými metodami. Současně je v závěru DP navržen další postup pro využití výsledků ve zvažovaných industriálních aplikací.
Anotace v angličtině
Presented diploma thesis propose to specify and find an proper method/technique for ultra-thin layer - deposited on the surface of products - measurement. At the beginning of theoretical part the main principles of plasma deposition technology are described as well as critical aspects of this process - just the issue of utra-thin layer measurement among others. The key passage of the theory summarizes principles of individual methodes potentially suitable for practical work execution. Experimental section defines and interperates results of measurements from used methodes. In the conclusion of this diploma thesis are results used as a base frame for some possible industrial application.
Klíčová slova
Ultratenká vrstva, depozice, plasma
Klíčová slova v angličtině
ultra-thin layer, plasma, deposition,
Rozsah průvodní práce
99 s. (84 714 znaků)
Jazyk
CZ
Anotace
Diplomová práce si klade za cíl nalézt vhodnou metodu měření tloušťky ultratenkých vrstev deponovaných účinkem plasmy na povrch výrobků. Teoretická část se věnuje v úvodní fázi popisu principu samotné technologie depozice (jinak též nanášení nebo nánosování) a zmiňuje kritické aspekty těchto technologií - mezi jinými právě problematika relevantního měření nanesených vrstev. Klíčová část literární rešerše shrnuje principy měřících metod potenciálně vhodných pro praktickou část. Praktická část DP definuje a interpretuje výsledky měření použitými metodami. Současně je v závěru DP navržen další postup pro využití výsledků ve zvažovaných industriálních aplikací.
Anotace v angličtině
Presented diploma thesis propose to specify and find an proper method/technique for ultra-thin layer - deposited on the surface of products - measurement. At the beginning of theoretical part the main principles of plasma deposition technology are described as well as critical aspects of this process - just the issue of utra-thin layer measurement among others. The key passage of the theory summarizes principles of individual methodes potentially suitable for practical work execution. Experimental section defines and interperates results of measurements from used methodes. In the conclusion of this diploma thesis are results used as a base frame for some possible industrial application.
Klíčová slova
Ultratenká vrstva, depozice, plasma
Klíčová slova v angličtině
ultra-thin layer, plasma, deposition,
Zásady pro vypracování
- Rešerše existujících metod pro měření vrstev tloušťky 20-200 nm
- Posouzení výhod a nevýhod jednotlivých metod
- Popis základního principu jednotlivých metod
- Vhodnost metod pro měření v rámci technologického procesu extruze desek
Zásady pro vypracování
- Rešerše existujících metod pro měření vrstev tloušťky 20-200 nm
- Posouzení výhod a nevýhod jednotlivých metod
- Popis základního principu jednotlivých metod
- Vhodnost metod pro měření v rámci technologického procesu extruze desek
Seznam doporučené literatury
I. Biederman, H. Deposition of Silicon Containing Films and FTIR Diagnosis, Plasma Polymer Films.
II. Introduction to Plasma Technology, John Ernest Harry.
III. Alexandrov, S. E., Hitchman M. L., Chemical Vapor Deposition Enhanced by Atmospheric Pressure Non-thermal Non-equilibrium Plasmas, Chemical Vapor Deposition.
Seznam doporučené literatury
I. Biederman, H. Deposition of Silicon Containing Films and FTIR Diagnosis, Plasma Polymer Films.
II. Introduction to Plasma Technology, John Ernest Harry.
III. Alexandrov, S. E., Hitchman M. L., Chemical Vapor Deposition Enhanced by Atmospheric Pressure Non-thermal Non-equilibrium Plasmas, Chemical Vapor Deposition.
Přílohy volně vložené
1 CD
Přílohy vázané v práci
-
Převzato z knihovny
Ne
Plný text práce
Přílohy
Posudek(y) oponenta
Hodnocení vedoucího
Záznam průběhu obhajoby
prof. Hudec - Proč AFM není vhodná metoda pro vaše měření?
doc. Měřínská - Proč jste zvolila pro porovnání materiál polystyren a SAN?