Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM).
Annotation in English
This bachelor thesis is focusing on the technique of electron-beam lithography and preparation of structures in polymer resist PMMA using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and evaluation of structures using an optical microscope, a mechanical profilometer and an atomic force microscope (AFM).
Electron-beam lithography, polymer resist, process of resist development, contrast of resist, optical microscopy, mechanical profilometry, AFM
Length of the covering note
56
Language
CZ
Annotation
Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM).
Annotation in English
This bachelor thesis is focusing on the technique of electron-beam lithography and preparation of structures in polymer resist PMMA using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and evaluation of structures using an optical microscope, a mechanical profilometer and an atomic force microscope (AFM).
Electron-beam lithography, polymer resist, process of resist development, contrast of resist, optical microscopy, mechanical profilometry, AFM
Research Plan
Polymerní rezisty jsou materiály využívané při přípravě mikrostruktur a nanostruktur v elektronice. Náplní bakalářské práce bude seznámení se s principy zápisu struktur do polymerních rezistů pomocí elektronové litografie. S využitím polymerních materiálů a elektronové litografie bude připravena funkční struktura a její fyzikální vlastnosti budou následně charakterizovány vhodnými metodami (AFM, profilometrie).
Research Plan
Polymerní rezisty jsou materiály využívané při přípravě mikrostruktur a nanostruktur v elektronice. Náplní bakalářské práce bude seznámení se s principy zápisu struktur do polymerních rezistů pomocí elektronové litografie. S využitím polymerních materiálů a elektronové litografie bude připravena funkční struktura a její fyzikální vlastnosti budou následně charakterizovány vhodnými metodami (AFM, profilometrie).
Recommended resources
Matějka, F. Praktická elektronová litografie. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2013. 88 s. ISBN 978-80-87441-04-6.
Urbánek, M., Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie, Brno 2012, Disertační práce Masarykova univerzita v Brně, Přírodovědecká fakulta.
Recommended resources
Matějka, F. Praktická elektronová litografie. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2013. 88 s. ISBN 978-80-87441-04-6.
Urbánek, M., Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie, Brno 2012, Disertační práce Masarykova univerzita v Brně, Přírodovědecká fakulta.
