Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM).
Anotace v angličtině
This bachelor thesis is focusing on the technique of electron-beam lithography and preparation of structures in polymer resist PMMA using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and evaluation of structures using an optical microscope, a mechanical profilometer and an atomic force microscope (AFM).
Electron-beam lithography, polymer resist, process of resist development, contrast of resist, optical microscopy, mechanical profilometry, AFM
Rozsah průvodní práce
56
Jazyk
CZ
Anotace
Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM).
Anotace v angličtině
This bachelor thesis is focusing on the technique of electron-beam lithography and preparation of structures in polymer resist PMMA using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and evaluation of structures using an optical microscope, a mechanical profilometer and an atomic force microscope (AFM).
Electron-beam lithography, polymer resist, process of resist development, contrast of resist, optical microscopy, mechanical profilometry, AFM
Zásady pro vypracování
Polymerní rezisty jsou materiály využívané při přípravě mikrostruktur a nanostruktur v elektronice. Náplní bakalářské práce bude seznámení se s principy zápisu struktur do polymerních rezistů pomocí elektronové litografie. S využitím polymerních materiálů a elektronové litografie bude připravena funkční struktura a její fyzikální vlastnosti budou následně charakterizovány vhodnými metodami (AFM, profilometrie).
Zásady pro vypracování
Polymerní rezisty jsou materiály využívané při přípravě mikrostruktur a nanostruktur v elektronice. Náplní bakalářské práce bude seznámení se s principy zápisu struktur do polymerních rezistů pomocí elektronové litografie. S využitím polymerních materiálů a elektronové litografie bude připravena funkční struktura a její fyzikální vlastnosti budou následně charakterizovány vhodnými metodami (AFM, profilometrie).
Seznam doporučené literatury
Matějka, F. Praktická elektronová litografie. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2013. 88 s. ISBN 978-80-87441-04-6.
Urbánek, M., Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie, Brno 2012, Disertační práce Masarykova univerzita v Brně, Přírodovědecká fakulta.
Seznam doporučené literatury
Matějka, F. Praktická elektronová litografie. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2013. 88 s. ISBN 978-80-87441-04-6.
Urbánek, M., Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie, Brno 2012, Disertační práce Masarykova univerzita v Brně, Přírodovědecká fakulta.
Přílohy volně vložené
-
Přílohy vázané v práci
ilustrace, grafy, schémata, tabulky
Převzato z knihovny
Ne
Plný text práce
Přílohy
Posudek(y) oponenta
Hodnocení vedoucího
Záznam průběhu obhajoby
Student přednesl stěžejní výsledky své BP a prokázal dostatečné znalosti studované problematiky.
Otázky Vedoucího BP:
- Jak se změní dopředný a zpětný rozptyl elektronů při použití svazku s vyšším urychlovacím napětím?
- Jakým způsobem lze modelovat trajektorie elektronů v pevné látce?
Vedoucím práce dr. M. Urbánkem bylo konstatováno, že odpovědi na otázky jsou dostatečné.
Otázky oponenta BP:
1) Můžete upřesnit význam jednotky akcelerace v tabulce 3?
2) Na obrázku 21 a 22 je patrné velké množství defektů v podobě bílých ploch. Co je příčinou těchto defektů?
3) V kapitole 4.7 píšete, že po vyvolání polymerního rezistu došlo ke zvýšení drsnosti. Toto tvrzení se bohužel neopírá o žádnou číselnou hodnotu Ra nebo Sa. Můžete vyjádřit parametry drsnosti pro srovnávané povrchy?
4) V závěru uvádíte, že čistota křemíkového substrátu ovlivňuje podobu naneseného rezistu. Jakým způsobem byla před depozicí polymerního rezistu kontrolována čistota povrchu křemíku? Pomocí působení jakých chemických látek ji lze zlepšit?
5) Můžete jednoznačně definovat nejlepší podmínky přípravy polymerních rezistů na povrchu křemíku na základě Vámi provedených testů?
Na otázky oponenta dr. Minaříka student zcela odpověděl.
Z řad komise nebyly vzneseny žádné dotazy.