Browse IS/STAG - Portál UTB

Skip to page content
Website UTB
Portal title page UTB
Anonymous user Login Česky
Browse IS/STAG
Login Česky
  • Welcome
  • Browse IS/STAG
  • Applicant
  • Graduate
  • Web services
  • ECTS
  • User Info
Welcome
Browse IS/STAG
Information for applicantsElectronic applicationECTS arrivals
Getting startedAlumni ClubAbsolvent - website
Web services
ECTS
User Info

1st level navigation

  • Welcome
  • Browse IS/STAG
  • Applicant
  • Graduate
  • Web services
  • ECTS
  • User Info
User disconnected from the portal due to long time of inactivity.
Please, click this link to log back in.
(Sessions are disconnected after 240 minutes of inactivity. Note that mobile devices may get disconnected even sooner).

Prohlížení IS/STAG (S025)

Help

Main menu for Browse IS/STAG

  • Programmes and specializations.
  • Courses
  • Departments
  • Lecturers
  • Students
  • Examination dates
  • Timetable events
  • Theses, selected item
  • Pre-regist. study groups
  • Rooms
  • Rooms – all year
  • Free rooms – Semester
  • Free rooms – Year
  • Capstone project
  • Times overlap
  •  
  • Title page
  • Calendar
  • Help

Search for a Thesis

Print/export:  Bookmark this link in your browser so that you may quickly load this IS/STAG page in the future.
Only logged-in user will see student personal numbers.

Dates found, count: 1

Search result paging

Found 1 records Print Export to xls List URL
  Surname Name Title Thesis status   Supervisors Reviewers Type of thesis Date of def. Title
Student Type of thesis - - - - - - - - - -
Item shown in detail Kotěna Includes the selected person into the timetable overlap calculation. Jan Preparation and Characterization of Silicon-based Structured Surfaces Preparation and Characterization of Silicon-based Structured Surfaces Thesis finished and defended successfully (DUO).   Minařík Antonín Mráček Aleš Master's thesis 1403042400000 18.06.2014 Preparation and Characterization of Silicon-based Structured Surfaces Thesis finished and defended successfully (DUO).
Jan Kotěna Master's thesis 0XX 0XX 0XX 0XX 0XX 0XX 0XX 0XX 0XX 0XX

Thesis info Příprava a charakterizace strukturovaných povrchů na bázi křemíku

  • Basic data
The document you are accessing is protected by copyright law. Unauthorised use may lead to criminal sanctions.
Name Kotěna Jan Includes the selected person into the timetable overlap calculation.
Acad. Yr. 2013/2014
Assigning department TUFMI
Date of defence Jun 18, 2014
Type of thesis Master's thesis
Thesis status Thesis finished and defended successfully (DUO). Thesis finished and defended successfully (DUO).
Completeness of mandatory entries - The following mandatory fields are not filled in for this Thesis.: Title in English
Main topic Příprava a charakterizace strukturovaných povrchů na bázi křemíku
Main topic in English Preparation and Characterization of Silicon-based Structured Surfaces
Title according to student Příprava a charakterizace strukturovaných povrchů na bázi křemíku
English title as given by the student -
Parallel name -
Subtitle -
Thesis supervisor Minařík Antonín, doc. Ing. Ph.D.
External examiner Mráček Aleš, prof. Mgr. Ph.D.
Annotation Cílem této práce byl vývoj a optimalizace nového postupu přípravy strukturovaných povrchů na bázi křemíku metodou anizotropního leptání v teplotních spádech. Tyto povrchy byly následně charakterizovány metodami pro zobrazení topografie povrchu mikroskopií atomárních sil (AFM) a skenovací elektronovou mikroskopií (SEM). Byl zkoumán vliv čistoty povrchu, složení leptacího činidla, času leptání, objemu leptacího média, teploty a teplotních spádů. Z výsledků vyplynulo, že volbou optimálních parametrů leptacího procesu a s použitím speciálně upraveného zařízení pro leptání křemíkových waferů lze připravit různě strukturované povrchy s rozdílnou homogenitou pokrytí a velikostí jednotlivých strukturních útvarů.
Annotation in English The goal of this work was the development and optimization of a novel process for the pre-paration of structured silicon-based surfaces using anizotropic etching in a temperature gradient. These surfaces were further characterized using surface displaying methods atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM).The effects of etching solvent composition, etch time, etching solvent volume, temperature, temperature gradient and surface purity were studied. The experimental results show that by choosing optimal etching parameters and when using modified machine made for Si wafer etching one can prepare differently structured surfaces which differ in homogenous coverage of etched area and in size of structural elements.
Keywords teplotní spád, křemík, anizotropní leptání, KOH, AFM, SEM, prvková analýza
Keywords in English temperature gradient, silicon, anisotropic etching, KOH, AFM, SEM, element analysis
Length of the covering note 108 s. (115 463 znaků)
Language CZ
Annotation
Cílem této práce byl vývoj a optimalizace nového postupu přípravy strukturovaných povrchů na bázi křemíku metodou anizotropního leptání v teplotních spádech. Tyto povrchy byly následně charakterizovány metodami pro zobrazení topografie povrchu mikroskopií atomárních sil (AFM) a skenovací elektronovou mikroskopií (SEM). Byl zkoumán vliv čistoty povrchu, složení leptacího činidla, času leptání, objemu leptacího média, teploty a teplotních spádů. Z výsledků vyplynulo, že volbou optimálních parametrů leptacího procesu a s použitím speciálně upraveného zařízení pro leptání křemíkových waferů lze připravit různě strukturované povrchy s rozdílnou homogenitou pokrytí a velikostí jednotlivých strukturních útvarů.
Annotation in English
The goal of this work was the development and optimization of a novel process for the pre-paration of structured silicon-based surfaces using anizotropic etching in a temperature gradient. These surfaces were further characterized using surface displaying methods atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM).The effects of etching solvent composition, etch time, etching solvent volume, temperature, temperature gradient and surface purity were studied. The experimental results show that by choosing optimal etching parameters and when using modified machine made for Si wafer etching one can prepare differently structured surfaces which differ in homogenous coverage of etched area and in size of structural elements.
Keywords
teplotní spád, křemík, anizotropní leptání, KOH, AFM, SEM, prvková analýza
Keywords in English
temperature gradient, silicon, anisotropic etching, KOH, AFM, SEM, element analysis
Research Plan
  1. Vypracujte rešerši na zadané téma s využitím doporučené literatury a databázových informačních zdrojů.
  2. Na základě získaných informací z literatury a dosavadních experimentálních poznatků optimalizujte postup přípravy různě strukturovaných povrchů na bázi křemíku.
  3. Připravené povrchy charakterizujte pomocí dostupných technik (AFM, SEM) z hlediska jejich topografie a čistoty.
  4. Získané poznatky přehledně prezentujte v experimentální a závěrečné části práce a kriticky zhodnoťte z hlediska rozhodujících faktorů determinujících proces přípravy definovaných povrchů s nerovnosti v řádech nano až mikrometrů.
Research Plan
  1. Vypracujte rešerši na zadané téma s využitím doporučené literatury a databázových informačních zdrojů.
  2. Na základě získaných informací z literatury a dosavadních experimentálních poznatků optimalizujte postup přípravy různě strukturovaných povrchů na bázi křemíku.
  3. Připravené povrchy charakterizujte pomocí dostupných technik (AFM, SEM) z hlediska jejich topografie a čistoty.
  4. Získané poznatky přehledně prezentujte v experimentální a závěrečné části práce a kriticky zhodnoťte z hlediska rozhodujících faktorů determinujících proces přípravy definovaných povrchů s nerovnosti v řádech nano až mikrometrů.
Recommended resources
  1. Werner Kern and K.A.Reinhardt. Handbook of silicon wafer cleaning technology, 2nd Ed., ISBN: 978-0-8155-1554-8, 2008
  2. W. Cho, W. Chin, C. Chuo. Effects of alcoholic moderators on anisotropic etching of silicon in aqueous pottasium hydroxide solutions. Sensors and actuators A 116 (2004), 357-368
  3. Lukáš Válek and Jan Šik (2012). Modern Aspects of Bulk Crystal and Thin Film Preparation, Dr. Nikolai Kolesnikov (Ed.), ISBN: 978-953-307-610-2, InTech, DOI: 10.5772/29816
  4. R.B. Herring, L.P. Hunt. Handbook of semiconductor silicon technology, edited by W.C. O´Mara, Noyes Publications, New Jersey 1990.
  5. H. Seidel, L. Csepregi, A. Heuberger, and H. Baumgartel, "Anisotropic etching of crystalline silicon in alkaline solutions I: Orientation dependence and behavior of passivation layers", J. Electrochem. Soc., vol. 137, no. 11, pp.3612 -3626 1990
Recommended resources
  1. Werner Kern and K.A.Reinhardt. Handbook of silicon wafer cleaning technology, 2nd Ed., ISBN: 978-0-8155-1554-8, 2008
  2. W. Cho, W. Chin, C. Chuo. Effects of alcoholic moderators on anisotropic etching of silicon in aqueous pottasium hydroxide solutions. Sensors and actuators A 116 (2004), 357-368
  3. Lukáš Válek and Jan Šik (2012). Modern Aspects of Bulk Crystal and Thin Film Preparation, Dr. Nikolai Kolesnikov (Ed.), ISBN: 978-953-307-610-2, InTech, DOI: 10.5772/29816
  4. R.B. Herring, L.P. Hunt. Handbook of semiconductor silicon technology, edited by W.C. O´Mara, Noyes Publications, New Jersey 1990.
  5. H. Seidel, L. Csepregi, A. Heuberger, and H. Baumgartel, "Anisotropic etching of crystalline silicon in alkaline solutions I: Orientation dependence and behavior of passivation layers", J. Electrochem. Soc., vol. 137, no. 11, pp.3612 -3626 1990
Týká se praxe No
Enclosed appendices -
Appendices bound in thesis -
Taken from the library No
Full text of the thesis
Appendices
Reviewer's report
Supervisor's report
Defence procedure record file